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J. Phys. Colloques
Volume 51, Numéro C5, Septembre 1990
European Congress on Thermal Plasma Processes and Materials Behaviour at High Temperature
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| Page(s) | C5-73 - C5-81 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1990510 | |
J. Phys. Colloques 51 (1990) C5-73-C5-81
DOI: 10.1051/jphyscol:1990510
PREPARATION OF RAW MATERIALS FOR FINE CERAMICS IN PLASMAS
E. JUHÁSZ, P. LUKÁCS, F. ROSENMANN, G. SZENTGYÖRGYI, A. IMRE, I. SAJÓ et A. CSORDÁS TÓTHALUTERV-FKI Hungalu Engineering and Development Centre, P.O. Box 128, H-1389 Budapest, Hungary
Résumé
Les matériaux céramiques sont indispensables dans la technologie au température élevée dues à leurs qualités mécaniques, électriques, magnétiques et optiques. Par celle présentation nous voulons donner les détails des différentes types des équipements de plasma et des technologies qui ont été développées pour préparer des poudres céramiques.
Abstract
Ceramic materials as silicon nitride, aluminium oxide, titanium nitride are promising materials for the high temperature technology due to their good mechanical, electrical, magnetic and optical properties. For preparation of these materials plasma technique represents a very important field, because ceramic powders have been successfully synthetized in thermal plasma reactors. Different types of plasma equipments were developed and some technologies were evaluated in this work for preparation of the above mentioned ceramic raw materials.