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J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C2, Février 1989
Second International Workshop on MeV and keV Ions and Cluster Interactions with Surfaces and Materials
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| Page(s) | C2-155 - C2-158 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989226 | |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C2-155-C2-158
DOI: 10.1051/jphyscol:1989226
DESORPTION OF SECONDARY NEGATIVE IONS INDUCED BY FAST HEAVY INCIDENT ATOMIC AND MOLECULAR IONS
M. SALEHPOUR1 and J.E. HUNT21 Department of Radiation Sciences, Ion Physics Division, Box 533, Uppsala University, Uppsala, Sweden
2 200 CHM, Argonne National Laboratory, 9700 South Cass Avenue, Argonne, IL 60439, U.S.A.
Résumé
Des ions lourds atomiques et moléculaires ont été utilisés comme ions incidents dans des études de désorption d'ions secondaires. Des ions C+, C2+, C3+, Ar+, CH+, CH3+, C3H3+, C4H9+, C7H15+, CO+, O2+, CO2+, CF+, CF3+, C3F5+ and C4F7+ ont été produits et accélérés dans la gamme d'énergie 600 keV - 3.9 MeV. Les ions moléculaires ont des rendements de désorption élevés. Ceci présente un intérêt pratique en spectrométrie de masse. Une interprétation de l'augmentation du rendement est présentée.
Abstract
Fast heavy atomic and molecular ions have been used as incident ions in secondary ion desorption studies. A number of ions such as C+, C2+, C3+, Ar+, CH+, CH3+, C3H3+, C4H9+, C7H15+, CO+, O2+, CO2+, CF+, CF3+, C3F5+ and C4F7+ have been produced and accelerated in the energy range 600 keV - 3.9 MeV. The molecular incident ions give rise to high measured secondary ion yields which is of practical interest in mass spectrometry. An interpretation of the enhancement in the yield with molecular incident ions is presented.