INTERACTION OF MULTIPLY CHARGED IONS WITH TUNGSTEN SOLID SURFACES : BACKSCATTERED IONS AND SECONDARY ELECTRONS

Résumé
Nous présentons des résultats concernant les ions réfléchis et les électrons secondaires recueillis lors de l'impact à l'incidence normale d'ions argon multichargés Ar^q+ (1 ≤ q ≤ 9) sur une surface de tungstène. Pour une charge donnée de la particule incidente, le coefficient de réflexion est sensiblement indépendant de l'énergie de l'ion primaire dans le domaine 10-120 keV. Ceci peut être attribué à l'augmentation de la charge moyenne des particules retrodiffusées lorsque l'énergie incidente augmente, compensée par la diminution du nombre de particules réfléchies. D'autre part, pour une énergie incidente donnée, la charge moyenne des particules réfléchies augmente avec la charge de la particule incidente. Le coefficient d'émission électronique secondaire total augmente linéairement avec le carré de la charge de l'ion incident. Ceci suggère que le processus d'émission de champ pourrait jouer un rôle dans l'émission électronique secondaire observée lors de l'interaction d'ions multichargés et de surfaces métalliques

Abstract
Results are concerned with backscattered ion and secondary electron emissions from impact, at normal incidence of Ar_q+ (1 ≤ q ≤ 9) ions on clean tungsten. For a given incident ion charge q, the reflection coefficient is roughly independent of the incident energy in the 10-120 keV range. This can be due to the balance between increase of the mean charge state of the backscattered particles when the energy increases and the decrease of the reflected ion number. Moreover, for a given incident energy, the mean charge of the backscattered particles increases with the charge of the incident ion. It was found a linear dependence of the total electron emission yield η versus q². This result suggests that the field emission process could play a role in the secondary electron emission due to the interaction of multicharged ions with metallic surfaces.