| Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 49, Numéro C5, Octobre 1988
Interface Science and Engineering '87An International Conference on the Structure and Properties of Internal Interfaces |
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| Page(s) | C5-289 - C5-292 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1988534 | |
An International Conference on the Structure and Properties of Internal Interfaces
J. Phys. Colloques 49 (1988) C5-289-C5-292
DOI: 10.1051/jphyscol:1988534
ATOMIC STRUCTURE OF "VITREOUS" INTERFACIAL FILMS IN SIALON
A. THOREL1, J.Y. LAVAL2 et D. BROUSSAUD11 Ecole des Mines de Paris, Centre des Matériaux, BP 87, F-91003 Evry Cedex, France
2 Laboratoire des Microstructures, CNRS-ESPCI, 10, rue Vauquelin, F-75231 Paris Cedex 05, France
Abstract
Atomic resolution imaging of siliceous interfacial films in a sialon has been achieved using transmission electron microscopy at 1000 KV. Although such films have always been reputed as vitreous, we show that they are at least partially crystallized. An atomic model is proposed and simulated. The stability of these films is discussed when special crystallographic relationships exist between the two adjacent grains.
Résumé
Des images de résolution atomique de films siliceux interfaciaux ont été enregistrées en microscopie électronique à 1000 KV. Quoique de tels films aient toujours été considérés comme vitreux, on montre qu'ils sont en fait partiellement cristallisés. Un modèle atomique est proposé et simulé. La stabilité de tels films est discutée lorsque des relations cristallographiques particulières existent entre les deux grains adjacents.