Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 48, Numéro C9, Décembre 1987
X-Ray and Inner-Shell Processes
Vol. 1
Page(s) C9-1113 - C9-1116
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19879202
X-Ray and Inner-Shell Processes
Vol. 1

J. Phys. Colloques 48 (1987) C9-1113-C9-1116

DOI: 10.1051/jphyscol:19879202

Si K-SHELL ABSORPTION SPECTRA OF CHLOROMETHYLSILANE MOLECULES IN THE GAS PHASE

J. HORMES1, R. CHAUVISTRE1, U. KUETGENS1, U. FISCHER2 and I. RUPPERT2

1  Physikalisches Institut der Universität, Nussallee 12, D-5300 Bonn 1, F.R.G.
2  Institut für Anorganische Chemie der Universität Bonn, Gerhard-Domagk-Strasse, D-5300 Bonn 1, F.R.G.


Résumé
Nous avons mesuré les spectres de photo absorption des molécules chloromethylsilane dans la région du seuil Si 1s (entre 1840 et 1900 eV) avec une très haute resolution et une statistique améliorée. Cette étude systématique facilite l'interpretation des résonaces et devrait aider à comprendre l'environnement chimique donnant lieue des résonances de forme.


Abstract
The photoabsorption spectra of the chloromethylsilane molecules (CH3)nSiCl4-n (n= 0 - 4) have been measured near the Si 1s - edge (between 1840 and 1900 eV) with high resolution and improved statistics. This systematic investigation facilitates the interpretation of the observed resonances and is believed to help in the understanding of the chemical environment giving rise to shape resonances.