| Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 45, Numéro C2, Février 1984
10ème Congrès International d'Optique des Rayons X et de Microanalyse 10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis |
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| Page(s) | C2-89 - C2-92 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984222 | |
10ème Congrès International d'Optique des Rayons X et de Microanalyse
10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
J. Phys. Colloques 45 (1984) C2-89-C2-92
DOI: 10.1051/jphyscol:1984222
1 Physics Department, Queen Elizabeth College, University of London, Campden Hill Road, London W8 7AH, U.K.
2 Daresbury Laboratory, Daresbury, Warrington, WA4 4AD, U.K.
10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
J. Phys. Colloques 45 (1984) C2-89-C2-92
DOI: 10.1051/jphyscol:1984222
A NEW LITHOGRAPHIC TECHNIQUE FOR THE MANUFACTURE OF HIGH RESOLUTION ZONE PLATES FOR SOFT X-RAYS
M.T. Browne1, P. Charalambous1, R.E. Burge1, P.J. Duke2, A.G. Michette1 et M.J. Simpson11 Physics Department, Queen Elizabeth College, University of London, Campden Hill Road, London W8 7AH, U.K.
2 Daresbury Laboratory, Daresbury, Warrington, WA4 4AD, U.K.
Résumé
Une technique de lithographie utilisant un microscope électronique à balayage en transmission est en développement. Cette technique est capable de dessiner avec précision sur des petites surfaces, des motifs dont l'épaisseur des lignes est inférieure à 50 nm. On décrit la méthode et on discute de ses applications à la fabrication de composants d'optique pour la diffraction des rayons-X mous.
Abstract
A lithographie technique using a Scanning Transmission Electron Microscope is being developed. This technique is capable of drawing accurate patterns, with line widths much less than 50 nm, over small areas. The method is described and its application to the manufacture of diffractive optical components for soft X-rays is discussed.