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J. Phys. Colloques
Volume 45, Numéro C2, Février 1984
10ème Congrès International d'Optique des Rayons X et de Microanalyse 10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis |
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| Page(s) | C2-73 - C2-76 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984218 | |
10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
J. Phys. Colloques 45 (1984) C2-73-C2-76
DOI: 10.1051/jphyscol:1984218
PHOTOELECTRON X-RAY MICROSCOPY
F. Polack1 et S. Lowenthal21 L.U.R.E., Université de Paris-Sud, Bât. 209 c, 91405 Orsay Cedex, France
2 Institut d'Optique, B.P. 43, 91406 Orsay Cedex, France
Résumé
Les rayons X mous, dans une bande qui s'étend entre 1 et 10 nm de longueur d'onde, présentent un intérêt majeur en microscopie X. Pour l'exploiter il faut cependant disposer d'un instrument résolvant et capable de travailler à longueur d'onde variable. Nous décrivons ici un microscope X à conversion d'image basé sur l'émission électronique secondaire. Cet instrument est actuellement en construction à l'Institut d'Optique (Orsay) ; monté sur l'anneau de stockage ACO (LURE, Orsay), il permettra d'atteindre une résolution de 50 nm.
Abstract
The soft-X ray range, between 1-10 nm wavelength, is highly interesting for X-ray microscopy. Taking advantage of it requires, however, to operate a high resolution instrument at a variable wavelength. We describe here an image converter X-ray microscope which is based on secondary photoemission. This instrument is now developped at the Institut d'optique (Orsay) ; it will be installed near ACO storage ring (LURE, Orsay) and should have a 50 nm resolution.