Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C7, Novembre 1983
Colloque International du C.N.R.S.Optogalvanic Spectroscopy and its Applications / Spectroscopie Optogalvanique et ses Applications |
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Page(s) | C7-429 - C7-437 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1983741 |
Optogalvanic Spectroscopy and its Applications / Spectroscopie Optogalvanique et ses Applications
J. Phys. Colloques 44 (1983) C7-429-C7-437
DOI: 10.1051/jphyscol:1983741
INFRARED LASER OPTOGALVANIC SPECTROSCOPY OF NH3 AND NO2
C.R. Webster et R.T. MenziesCalifornia Institute of Technology, Jet Propulsion Laboratory, 4800 Oak Grove Drive, California 91109, U.S.A.
Résumé
Les spectres optogalvaniques de portion de la bande ν3 de NO2 à 6,2 µm et de la bande ν2 de NH3 à 9,5 µm ont été enregistrées à la limite Doppler avec des laser à diodes, continus et accordables. Une nouvelle cellule utilisant des électrodes amovibles et une géométrie orthogonale entre le laser et la décharge a permis d'identifier deux contributions au signal optogalvanique dont l'une est associée uniquement à la décharge lumineuse négative.
Abstract
Infrared laser optogalvanic (LOG) spectra of portions of the NO2 ν3 band at 6.2 µm and the NH3 ν2 band at 9.5 µm have been recorded at Doppler-limited resolution using cw tunable diode lasers. A novel cell design, using adjustable electrode positions and an orthogonal geometry between the probe laser and discharge axis allows two contributions to the LOG signal to be identified, one associated only with the negative glow.