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J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C7, Novembre 1983
Colloque International du C.N.R.S.Optogalvanic Spectroscopy and its Applications / Spectroscopie Optogalvanique et ses Applications |
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Page(s) | C7-209 - C7-216 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1983717 |
Optogalvanic Spectroscopy and its Applications / Spectroscopie Optogalvanique et ses Applications
J. Phys. Colloques 44 (1983) C7-209-C7-216
DOI: 10.1051/jphyscol:1983717
R.F. OPTOGALVANIC DETECTION OF RYDBERG AND AUTOIONIZING LEVELS OF RARE GASES : DIAMAGNETIC BEHAVIOUR OF XENON RYDBERG STATES
J.P. Lemoigne, J.P. Grandin, X. Husson et H. KucalLaboratoire de Spectroscopie Atomique, Université de Caen, 14032 Caen Cedex, France
Résumé
Quand un oscillateur R.F. est utilisé pour produire une décharge dans une cellule contenant un gaz, le régime et donc la consommation de l'oscillateur peuvent être très sensibles aux variations d'impédance du plasma, telles que celles résultant de l'excitation laser de transitions entre niveaux d'excitation électronique de l'élément considéré. Ceci constitue le principe de la méthode de détection R.F. optogalvanique que nous appliquons à l'étude de niveaux de Rydberg et autoionisants du krypton et du xénon. On montre dans le cas de niveaux de Rydberg du xénon que la méthode s'applique particulièrement bien à la détection en présence d'un champ magnétique fort.
Abstract
When a R.F. oscillator is used to produce a discharge in a gas cell, the rate and hence the power consumption of the oscillator may be very sensitive to impedance variations of the plasma, such as those induced by laser transition between electronic excitation levels of the considered element. This is the basis of the R.F. optogalvanic detection method which we apply to the study of Rydberg and autoionizing levels of krypton and xenon. It is shown in the case of xenon Rydberg states that the method is especially suitable for detection in presence of a strong magnetic field.