ACTION D'UN CHAMP ÉLECTRIQUE SUR LES PROPRIÉTÉS PHOTOÉLECTRIQUES DE COUCHES MINCES MÉTALLIQUES

Résumé
On a étudié le comportement du rendement photoélectrique de couches minces d'or, de cuivre et d'argent lorsqu'on leur applique un champ électrique perpendiculaire au plan de leur support. Les couches ont une épaisseur comprise entre 1 et 100 nm environ. Le champ électrique varie de 0 à 5 × 10⁵ V/m environ. Grâce à la méthode graphique de Fowler, on a déterminé les travaux de sortie correspondants et leurs variations en fonction du champ. On constate que, lorsque ce dernier augmente, le travail de sortie relatif au seuil photoélectrique diminue. Cette variation dépend de l'épaisseur de la couche mince.

Abstract
We have studied the photoelectric yield behaviour of thin films of gold, copper and silver, when an electric field is applied to them, perpendicularly to the plane of their substrate. The thicknesses of these films were comprised between 1 and 100 nm. The electric field in our experiments was comprised between about 0 and 5 × 10⁵ V/m. Using Fowler's graphic method, the corresponding work functions and their variations in accordance with the field were determined. We can see that when this last one increases, the work function decreases. This variation depends on thin film thickness.