| Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 32, Numéro C4, Octobre 1971
COLLOQUE INTERNATIONAL DU C.N.R.S.PROCESSUS ÉLECTRONIQUES SIMPLES ET MULTIPLES DU DOMAINE X ET X-UV |
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| Page(s) | C4-274 - C4-277 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1971450 | |
PROCESSUS ÉLECTRONIQUES SIMPLES ET MULTIPLES DU DOMAINE X ET X-UV
J. Phys. Colloques 32 (1971) C4-274-C4-277
DOI: 10.1051/jphyscol:1971450
LE DÉPLACEMENT CHIMIQUE COMME MESURE DU POTENTIEL HARTREE A LA POSITION DU NOYAU
C. K. JØRGENSENInstitut de Chimie Physique, Université de Genève, 1211, Genève, 4, Suisse
Résumé
Depuis 1967, la spectroscopie des photo-électrons a complété les spectres d'absorption X en permettant l'évaluation des énergies d'ionisation I d'orbitales intérieures et pénultièmes d'atomes dans la surface d'un échantillon solide. Le déplacement chimique dI d'un composé à un autre indique la variation du potentiel de Hartree. Il augmente avec la charge fractionnaire de l'atome mais est diminué par le potentiel de Madelung des atomes voisins.
Abstract
Since 1967, photo-electron spectroscopy has extended X-ray absorption data by allowing the ionization energy I of inner shells and penultimate orbitals of atoms in the surface of a solid sample to be measured. The chemical shift dI from one compound to another indicates the variation of the Hartree potential. dI is an increasing function of the fractional charge of the atom considered, but it is decreased by the Madelung potential produced by adjacent atoms.