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J. Phys. Colloques
Volume 32, Numéro C4, Octobre 1971
COLLOQUE INTERNATIONAL DU C.N.R.S.PROCESSUS ÉLECTRONIQUES SIMPLES ET MULTIPLES DU DOMAINE X ET X-UV |
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Page(s) | C4-200 - C4-206 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1971437 |
PROCESSUS ÉLECTRONIQUES SIMPLES ET MULTIPLES DU DOMAINE X ET X-UV
J. Phys. Colloques 32 (1971) C4-200-C4-206
DOI: 10.1051/jphyscol:1971437
X-ray EMISSION BANDS AND ELECTRONIC STRUCTURE OF SILICON AND OF SOME SILICON, SULPHUR, AND ALUMINUM COMPOUNDS
G. WIECH and E. ZÖPFSektion Physik der Universität München West-Germany
Résumé
On présente les spectres X d'émission Kβ et L2, 3 du silicium pur, du silicium présent dans les composés intermétalliques Ca2Si, Ca5Si3, CaSi, CaSi2 et Ca0,75Sr0,25Si2, de l'aluminium dans AlN et AlSb, enfin du soufre dans ZnS, CdS et FeS2. Les résultats expérimentaux relatifs au silicium sont comparés aux récentes valeurs calculées de la densité d'états et de la distribution d'intensité des bandes d'émission K et L. Les distributions d'intensité théorique et expérimentale sont en bon accord. Les bandes d'émission S Kβ et S L2, 3 du ZnS ont été interprétées en tenant compte des différentes valeurs des bandes d'énergie, obtenues par le calcul.
Abstract
X-ray Kβ- and L2, 3-emission bands are presented for pure silicon, for silicon in the intermetallic compounds Ca2Si, Ca5Si3, CaSi, CaSi2 and Ca0,75Sr0,25Si2, for aluminum in AlN and AlSb, and for sulphur in ZnS, CdS and FeS2. For pure silicon the experimental results are compared with recent calculations of the density of states and the intensity distribution of the K- and L-emission bands. The experimental and theoretical intensity distributions agree fairly well. In the case of ZnS an interpretation of the S Kβ- and S L2, 3-emission bands is given taking into account different energy band calculations.