Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 29, Numéro C3, Avril 1968
COLLOQUE SUR LA PHYSIQUE DES MILIEUX IONISÉS
Page(s) C3-204 - C3-206
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1968353
COLLOQUE SUR LA PHYSIQUE DES MILIEUX IONISÉS

J. Phys. Colloques 29 (1968) C3-204-C3-206

DOI: 10.1051/jphyscol:1968353

AMPLIFICATION D'UN SIGNAL UHF PAR UNE ONDE PROGRESSIVE DE POMPE

PHAM-TU-MANH and A. SEPTIER

Institut d'électronique fondamentale, Laboratoire Associé au C.N.R.S., Faculté des Sciences, Orsay (France)


Résumé
Nous rapportons ici des résultats expérimentaux d'amplification paramétrique réalisée avec un système faisceau-plasma. Le plasma est produit soit par ionisation d'un gaz neutre par le faisceau d'électrons, soit par une décharge du type PIG Reflex à cathodes chaudes. La fréquence du signal Fs à amplifier se situe dans la bande 1-2 GHz, la fréquence de pompe Fp étant égale à environ 2 Fs. Le système possède une largeur de bande relativement grande et des gains nets égaux ou supérieurs à 30 dB ont été obtenus. On a étudié la variation du gain en fonction des différents paramètres du système. Une tentative d'explication théorique du mécanisme d'amplification est donnée.


Abstract
Experimental results concerning parametric amplification performed with a beam-plasma system are reported. The plasma can be produced either by beam ionization of a neutral gas, or by a PIG Reflex hot cathode discharge. The signal frequency Fs lies in the 1-2 GHz band, the pump frequency Fp being about twice this value. The system exhibits a rather broad bandwidth and net gain as high as 30 dB has been obtained. The gain dependence on various parameters has been studied. A tentative of theoretical explanation of the underlying mechanism is given.