Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C2, Février 1989
Second International Workshop on MeV and keV Ions and Cluster Interactions with Surfaces and Materials
Page(s) C2-121 - C2-125
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989221
Second International Workshop on MeV and keV Ions and Cluster Interactions with Surfaces and Materials

J. Phys. Colloques 50 (1989) C2-121-C2-125

DOI: 10.1051/jphyscol:1989221

SIMS AND SCANNING ION MICROSCOPY

G.C. ALLEN and I.T. BROWN

Central Electricity Generating Board, Berkeley Nuclear Laboratories, Berkeley, GB-Gloucestershire GL13 9PB, Great-Britain


Résumé
Un microscope à ballayage ionique développé aux "Berkeley Nuclear Laboratories" du C.E.G.B., est décrit. Par bombardement ionique à partir d'une source de gallium métal liquide et analyses consécutives des ions secondaires et des électrons émis, selon des techniques conventionnelle de spectroscopie de masse et de microscopie électronique, cet appareil permet d'obtenir le spectre de masse des ions secondaires et de visualiser la surface examinée. Des résultats de microscopie à ballayage appliquées à des études de matériaux métalliques, inorganiques et organique seront présentés.


Abstract
A scanning ion microscope developed at the CEGB's Berkeley Nuclear Laboratories is described. By ion bombardment from a liquid metal gallium source, and subsequent analysis of both the resultant secondary ions and secondary electrons using conventional techniques of mass spectrometry and electron microscopy, this instrument offers both secondary ion mass analysis (SIMS) and the facility for imaging the surface under investigation. Results from the application of the scanning ion microscope to the study of metallic, inorganic and organic materials are presented.