Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 48, Numéro C6, Novembre 1987
34th International Field Emission Symposium / 34ème Symposium International d'Emission de Champ
Page(s) C6-499 - C6-504
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1987682
34th International Field Emission Symposium / 34ème Symposium International d'Emission de Champ

J. Phys. Colloques 48 (1987) C6-499-C6-504

DOI: 10.1051/jphyscol:1987682

FIM OBSERVATION ON THE REACTION OF METALS ( W, Mo ) WITH n-OCTANOL UNDER AN APPLIED VOLTAGE

T. Terao, F. Iwatsu, H. Morikawa et Y.Yashiro

Department of Materials Science and Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466, Japan


Résumé
Il a été montré que l'alcool n-octylique réagissait électrochimiquement non seulement avec le W mais encore avec le Mo en divisant la face (110) en quatre parties entre les lignes de zone [001] et [1[MATH]0]. Une étude détaillée des images consécutives d'évaporation de champs a démontré qu' il y avai t une fosse profonde faite à la face (110), la face la plus stable chimiquement des métaux c.c.c.


Abstract
An electrochemical reaction in n-octanol which splits the central (110) plane into four parts across the [001] and [1[MATH]0] zone lines has been shown to occur not only to W but also to Mo. A detailed study of the sequential images of field evaporation have revealed that there is a deep pit made on the (110) plane, chemically the most stable plane of b.c.c. metals.