PLASMA CVD USING ORGANOMETALLIC COMPOUNDS
H. SUHR, J. BALD, L. DEUTSCHMANN, A. ETSPÜLER, E. FEURER, H. GRÜNWALD, C. HAAG, H. HOLZSCHUH, C. OEHR, S. REICH, R. SCHMID, I. TRAUS, B. WAIMER, A. WEBER et H. WENDEL
J. Phys. Colloques, 50 C5 (1989) C5-739-C5-746
DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989589
