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Anisotropic etching of polymers in SO2/O2plasmas: Hypotheses on surface mechanisms

Michel Pons, Jacques Pelletier and Olivier Joubert
Journal of Applied Physics 75 (9) 4709 (1994)
https://doi.org/10.1063/1.355924

Preparation of copper thin films at ambient temperature by microwave plasma‐enhanced chemical vapor deposition from the copper (II) acetylacetonate‐argon‐hydrogen system

J. Pelletier, R. Pantel, J. C. Oberlin, Y. Pauleau and P. Gouy‐Pailler
Journal of Applied Physics 70 (7) 3862 (1991)
https://doi.org/10.1063/1.349192