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Article cité :

PROCESSUS DE TRANSPORT DANS LES OXYDESCATION SELF DIFFUSION IN RUTILE

T. S. LUNDY, W. A. COGHLAN

J. Phys. Colloques, 34 C9 (1973) C9-299-C9-302

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1973953

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Citations de cet article :

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DOI: 10.1088/1361-648X/aa89ba
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Kinetics of BaTiO3 and PbTiO3 Formation from Metallo-organic Precursors

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Tracer impurity diffusion in single-crystal rutile (TiO2−x)

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Dynamic strain ageing in stoichiometric rutile single crystals

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Oxidation kinetics of nitrogen doped TiO2−δ thin films

Jianmin Shi, Doh-Kwon Lee, Han-Ill Yoo, Jürgen Janek and Klaus-Dieter Becker
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The role of Ti3+interstitials in TiO2(110) reduction and oxidation

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