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Article cité :

FAST PLASMA DEPOSITION OF CARBON AND SILICON LAYERS

J.J. BEULENS, A.J.M. BUURON, L.A. BISSCHOPS, T.H.J. BISSCHOPS, A.B.M. HUSKEN, G.M.W. KROESEN, G.J. MEEUSEN, C.J. TIMMERMANS, A.T.M. WILBERS, D.C. SCHRAM

J. Phys. Colloques, 51 C5 (1990) C5-361-C5-367

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1990543

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Citations de cet article :

Argon-hydrogen plasma jet investigated by active and passive spectroscopic means

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Anomalous fast recombination in hydrogen plasmas involving rovibrational excitation

M. J. de Graaf, R. Severens, R. P. Dahiya, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram
Physical Review E 48 (3) 2098 (1993)
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Depolarization Rayleigh scattering as a means of molecular concentration determination in plasmas

R. F. G. Meulenbroeks, D. C. Schram, L. J. M. Jaegers and M. C. M. van de Sanden
Physical Review Letters 69 (9) 1379 (1992)
https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.69.1379