DÉFAUTS INDUITS DANS Si PAR IMPLANTATION DIRECTE OU A TRAVERS UNE COUCHE DE SiO2 B. Balland, B. Remaki, P. Pinard and E. Mercier J. Phys. Colloques, 44 C5 (1983) C5-319-C5-324 DOI: 10.1051/jphyscol:1983548