Supplément au Journal de Physique Colloques

KINETICS OF THE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON NITRIDE-FROM Si(CH₃)₄/ NH₃/H₂ GAS MIXTURES

N. ROELS, T. LECOINTE, R. GUINEBRETIERE et J. DESMAISON

J. Phys. Colloques, 50 C5 (1989) C5-435-C5-444

DOI: 10.1051/jphyscol:1989555

N. ROELS

T. LECOINTE

R. GUINEBRETIERE

J. DESMAISON

articles ayant parmi leurs auteurs TOUS les auteurs sélectionnés (ET)

articles ayant parmi leurs auteurs AU MOINS un auteur identique à ceux sélectionnés (OU)