Supplément au Journal de Physique Colloques

ON THE KINETICS OF THE CVD OF Si FROM SiH₂Cl₂/H₂ AND SiC FROM CH₃SiCl₃/H₂ IN A VERTICAL TUBULAR HOT-WALL REACTOR

F. LANGLAIS, C. PREBENDE, B. TARRIDE et R. NASLAIN

J. Phys. Colloques, 50 C5 (1989) C5-93-C5-103

DOI: 10.1051/jphyscol:1989515

F. LANGLAIS

C. PREBENDE

B. TARRIDE

R. NASLAIN

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