Supplément au Journal de Physique Colloques

CONDUCTING DIFFUSION BARRIER : FORMATION AND CHARACTERISATION OF WN OBTAINED BY THERMAL ANNEALING UNDER NH₃ OF W FILMS DEPOSITED ON Si

A. DENEUVILLE, M. BENYAHYA, M. BRUNEL et B. CANUT

J. Phys. Colloques, 49 C4 (1988) C4-499-C4-502

DOI: 10.1051/jphyscol:19884103

A. DENEUVILLE

M. BENYAHYA

M. BRUNEL

B. CANUT

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