Supplément au Journal de Physique Colloques

PULSED ELECTRON BEAM ANNEALING OF ARSENIC-IMPLANTATION DAMAGE IN SILICON

D. Barbier, A. Laugier et A. Cachard

J. Phys. Colloques, 43 C5 (1982) C5-411-C5-420

DOI: 10.1051/jphyscol:1982547

D. Barbier

A. Laugier

A. Cachard

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