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Unraveling the adsorption-limited hydrogen oxidation reaction at palladium surface via in situ electron microscopy
Yukun Liu, Kunmo Koo, Zugang Mao, Xianbiao Fu, Xiaobing Hu and Vinayak P. Dravid Proceedings of the National Academy of Sciences 121(40) (2024) https://doi.org/10.1073/pnas.2408277121
Probing the Chemistry of Adhesion between a 316L Substrate and Spin-on-Glass Coating
Quantifying reaction spread and x-ray exposure sensitivity in hydrogen silsesquioxane latent resist patterns with x-ray spectromicroscopy
Allison G. Caster, Stefan Kowarik, Adam M. Schwartzberg, et al. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 28(6) 1304 (2010) https://doi.org/10.1116/1.3514124
Electronic Properties of the Si/SiO2 Interface from First Principles