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Article cité :

PULSED LASER IRRADIATION OF NICKEL THIN FILMS ON SILICON

P. Baeri, M.G. Grimaldi, E. Rimini, G. Celotti

J. Phys. Colloques, 44 C5 (1983) C5-449-C5-454

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1983566

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Citations de cet article :

Selective Heating of Transition Metal Usings Hydrogen Plasma and Its Application to Formation of Nickel Silicide Electrodes for Silicon Ultralarge-Scale Integration Devices

Tetsuji Arai, Hiroki Nakaie, Kazuki Kamimura, et al.
Journal of Materials Science and Chemical Engineering 04 (01) 29 (2016)
https://doi.org/10.4236/msce.2016.41006