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A simple modification of the magnetron sputtering method for the deposition of boron-doped hydrogenated microcrystalline silicon films with enhanced doping efficiency
Preparation of ultrathin microcrystalline silicon layers by atomic hydrogen etching of amorphous silicon and end-point detection by real time spectroellipsometry
Role of hydrogen dilution and diborane doping on the growth mechanism ofp‐type microcrystalline silicon films prepared by photochemical vapor deposition
Sukriti Ghosh, Abhijit De, Swati Ray and A. K. Barua Journal of Applied Physics 71(10) 5205 (1992) https://doi.org/10.1063/1.350576
¼c Silicon Thin Films Deposited by Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Process
Comparison of the properties of hydrogenated microcrystalline silicon films deposited by photo–chemical‐vapor deposition and glow‐discharge deposition processes
Joydeep Dutta, A. L. Unaogu, Swati Ray and A. K. Barua Journal of Applied Physics 66(10) 4709 (1989) https://doi.org/10.1063/1.343829
Raman scattering studies in glow discharge deposited a-Si:H films: Effect of argon dilution