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Article cité :

THE RESISTIVITY OF AMORPHOUS METALLIC ALLOYS DOWN TO 60 mK

R.W. Cochrane, F.T. Hedgcock, B.J. Kästner, W.B. Muir

J. Phys. Colloques, 39 C6 (1978) C6-939-C6-940

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:19786416

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Citations de cet article :

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Electrical properties of amorphous Ni-P alloys produced by ion implantation

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