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J. Phys. Colloques
Volume 46, Numéro C4, Avril 1985
International Conference on the Structure and Properties of Internal Interfaces
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| Page(s) | C4-85 - C4-88 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1985407 | |
J. Phys. Colloques 46 (1985) C4-85-C4-88
DOI: 10.1051/jphyscol:1985407
APPLICATION OF CONVERGENT BEAM ELECTRON DIFFRACTION TO GRAIN BOUNDARY STRUCTURE DETERMINATION
F.W. Schapink, N.S. Blom et S.K.E. ForghanyLaboratory of Metallurgy, Delft University of Technology, Rotterdamseweg 137, 2628 AL Delft, The Netherlands
Résumé
Nous avons utilisé la technique de la diffraction des électrons faisceau convergent pour étudier la structure des joints de grains. L'influence de la position d'un joint de macle, situé parallèlement à la surface de l'échantillon, sur les clichés de diffraction, est discutée. Aussi quelques résultats obtenus pour un joint de macle dans le silicium parallèle au faisceau d'électrons sont rapportés.
Abstract
Convergent beam electron diffraction has been applied for determining grain boundary structures, both for horizontal as well as vertical boundaries in thin specimens. The influence of boundary location on the CBED pattern for a horizontal twin boundary is discussed, and some preliminary experiments on the pattern symmetry of vertical twin boundaries in Si are presented.