| Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
|
|
|---|---|---|
| Page(s) | C10-195 - C10-198 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831040 | |
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-195-C10-198
DOI: 10.1051/jphyscol:19831040
Laboratoire de Physicochimie des Interfaces, Ecole Centrale de Lyon, 36, avenue Guy de Collongue, BP 163, 69131 Ecully Cedex, France
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-195-C10-198
DOI: 10.1051/jphyscol:19831040
ELLIPSOMETRE A EPAISSEUR VARIABLE DE FILM APPLICATION TiO2/Ti
A. Gagnaire et J. JosephLaboratoire de Physicochimie des Interfaces, Ecole Centrale de Lyon, 36, avenue Guy de Collongue, BP 163, 69131 Ecully Cedex, France
Résumé
Pour déterminer simultanément les indices d'un film et d'un substrat nous avons employé une méthode utilisant les épaisseurs de films variables. En prenant le système oxyde de titane sur titane nous étudions la faisabilité de la méthode.
Abstract
In order to determine the indices of a film and the substrate at the same time, a multiple film thicknesses method was employed. The application to the titanium-oxide system allows us to test the feasability of this method.