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J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-191 - C10-194 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831039 | |
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-191-C10-194
DOI: 10.1051/jphyscol:19831039
AN IN-SITU REFLECTION-SPECTROSCOPIC STUDY APPLIED TO ANODIC OXIDE FILMS ON IRON, NICKEL, AND TITANIUM
T. Ohtsuka, K. Azumi et N. SatoElectrochemistry Laboratory, Faculty of Engineering, Hokkaido University, Sapporo, 060 Japan
Résumé
La réflectométrie à 3 paramètres est utilisée pour caractériser les films minces d'oxyde sur fer, nickel et titane. Le film de passivation sur le fer présente un spectre d'absorption, et donc des niveaux de transition des électrons, analogues à ceux du Fe2O3 massique. Le spectre optique du film de passivation du nickel ne présente pas de structure caractéristique mais le coefficient d'extinction dépend beaucoup du potentiel anodique. Le film anodique d'oxyde de titane présente une bande interdite d'environ 3,2 eV, qui est du même ordre de grandeur que celle du TiO2 massique (3,05 eV).
Abstract
3-Parameter reflectometry is applied to characterize the anodic thin oxide films on iron, nickel, and titanium. The passivation film on iron exhibits the absorption spectrum and hence the transition levels of electron analogous to that of the bulk Fe2O3. The passivation film on nickel have no characteristic feature in the optical spectrum, but its extinction index is much dependent on the anodic potential. The anodic oxide film on titanium have a band gap about 3.2 eV, which is comparable to the band gap 3.05 eV of bulk TiO2.