Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 39, Numéro C6, Août 1978
The XVth International Conference on low temperature physics
Quantum Fluids and Solids
Superconductivity
Page(s) C6-965 - C6-966
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19786428
The XVth International Conference on low temperature physics
Quantum Fluids and Solids
Superconductivity

J. Phys. Colloques 39 (1978) C6-965-C6-966

DOI: 10.1051/jphyscol:19786428

THERMAL DIFFUSIVITY OF VITREOUS SILICA (16 mK < T < 2.3 K)

J.E. Lewis1 and J.C. Lasjaunias2

1  Department of Physics, SUNY Plattsburgh, NY 12901, U.S.A.
2  Centre de Recherches sur les Très Basses Températures, C.N.R.S., Cedex 166, 38042 Grenoble, FRANCE.


Résumé
La diffusivité thermique de SiO2 vitreux (< 1,5 ppm OH) entre 16 mK < T < 2,3 K est en excellent accord avec les valeurs dérivées de la conduction thermique et la chaleur spécifique du même échantillon obtenues par des techniques indépendantes, et correspond pour T < 200 mK à : C α T1,35 ± 0,05. Ceci implique l'existence d'un gap à très basse énergie dans la densité d'états des systèmes à deux niveaux.


Abstract
The thermal diffusivity of vitreous SiO2 (< 1.5 ppm OH) between 16 mK < T < 2.3 K is in excellent agreement with values derived from thermal conductivity and specific heat data on the same sample by independant techniques, and indicates (T < 200 mK) C α T1.35 ± 0.05. This implies the existence of a gap at very low energy in the density states of the two level systems.